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氯化焙燒又稱氯化脫氣，利用顆粒表面與內(nèi)部在高濃氯氣作用下產(chǎn)生的化學(xué)位梯度，促使氣液包裹體擴散出去。石英顆粒表層的堿金屬、堿土金屬和殘余的包裹體等雜質(zhì)在高溫下與氯氣反應(yīng)生成氣態(tài)氯化物，相較于其他金屬離子，Al和B的反應(yīng)活性較低，高溫氣流將這些雜質(zhì)元素的氯化物帶走，從而達到深度提純的目的。
氯化焙燒是一種深度提純工藝，成本較高，處理能力有限，具有一定危險性。當前，僅有美國矽比科等極少數(shù)幾家公司實現(xiàn)該工藝的工業(yè)應(yīng)用。
該工藝對進料要求較高，一般是經(jīng)過傳統(tǒng)工藝提純后，SiO2純度達到99.99%，雜質(zhì)總量小于100×10-6的石英砂才能滿足進料要求。氯化焙燒的裝置多為自行設(shè)計，還沒有統(tǒng)一的標準設(shè)備，仍處于不斷發(fā)展完善過程中。
根據(jù)氯化劑的種類，氯化焙燒可分為固態(tài)氯化焙燒和氣態(tài)氯化焙燒。其中：固態(tài)氯化焙燒所使用的氯化劑一般為NaCl、CaCl2、NH4Cl；氣態(tài)氯化焙燒所使用的氯化劑一般為Cl2、HCl。